應用部分最小平方模式為基礎的多變數批次間控制於化學機械研磨製程 = Application of Partial Least Squares Model Based Multivariable Run-to-Run Control for Chemical Mechanical Polishing Process

• 作者： 著 張賀鈞
• 其他作者：
  • 王國彬 指導
  • Chang, He Chun
  • Wang, G. B.
• 出版： 桃園縣 : 長庚大學
• 版本：初版
• 主題： 部分最小平方 , 多變數 , 批次間控制 , 指數權重移動平均 , 化學機械研磨製程 , PLS , Multivariable , Run-to-Run Control , EWMA , CMP process
• 資料類型: 博碩士論文
• 內容註: 碩士論文-- 長庚大學化工與材料工程研究所 含參考書目 校內電子全文開放日期： 2009.8.11 校外電子全文開放日期： 不公開 國圖電子全文開放日期： 不公開 畢業學年度: 96 指導教授: 王國彬
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