金屬閘極對高介電常數及二氧化矽閘極絕緣層電容頻率失真之研究 = The Metal Gate Dependence of Frequency dispersion of The MOS Capacitance with High-K and SiO2 Gate Dielectrics

• 作者： 著 陳世敏
• 其他作者：
  • 賴朝松 指導
  • Chen, Shin Min
  • Lai, C. S.
• 出版： 桃園縣 : 長庚大學
• 版本：初版
• 主題： 頻率分散 , Frequency dispersion
• 資料類型: 博碩士論文
• 內容註: 碩士論文-- 長庚大學電子工程學研究所 含參考書目 校內電子全文開放日期： 不公開 校外電子全文開放日期： 不公開 畢業學年度: 94 指導教授: 賴朝松
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