使用氟離子於五氧化二鉭之複晶矽絕緣層之研究 = The Ta2O5 (Tantalum Pentoxide) Dielectrics on Polysilicon with the Fluorine Ion

• 作者： 著 羅文仕
• 其他作者：
  • 高泉豪 指導
  • Luo, Wen Shih
  • Kao, C. H. (Chuan Hao)
• 出版： 桃園縣 : 長庚大學
• 版本：初版
• 主題： 五氧化二鉭 , 氟離子 , Tantalum Pentoxide , Fluorine Ion
• 資料類型: 博碩士論文
• 內容註: 碩士論文-- 長庚大學電子工程學研究所 含參考書目 校內電子全文開放日期： 2011.7.1 校外電子全文開放日期： 不公開 國圖電子全文開放日期： 不公開 畢業學年度: 98 指導教授: 高泉豪
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