利用鋁摻雜與四氟化碳電漿處理於二氧化鋯薄膜之反鐵電特性探討 = The Study of Anti-Ferroelectricity in Zirconium Dioxide Thin Films with Aluminum Doping and CF4 Plasma Treatment

• 作者： 林立翔 著
• 其他作者：
  • 王哲麒 指導
  • Wang, J. C. (Je Chi)
  • Lin, Li Hsiang
• 出版： 桃園市 : 長庚大學
• 版本：初版
• 主題： 四氟化碳電漿處理 , 鋁摻雜 , 反鐵電性 , CF4 plasma treatment , Aluminum doping , Antiferroelectric
• 資料類型: 博碩士論文
• 內容註: 碩士論文-- 長庚大學電子工程學系 含參考書目 校內電子全文開放日期： 2021/02/02 校外電子全文開放日期： 不公開 國圖電子全文開放日期： 2021/02/02 畢業學年度: 109 指導教授: 王哲麒
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