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電漿浸入式離子佈值的前處理應用在矽晶圓上介電層的研究 = The dielectric research of Plasma Immersion Ion Implantation (PIII) pretreatment apply on silicon wafer
- 作者: 著 羅振宇 (民95電子工程學研究所)
- 其他作者:
- 出版: 桃園縣 : 長庚大學
- 版本:初版
- 資料類型: 博碩士論文
- 內容註: 碩士論文-- 長庚大學電子工程學研究所 含參考書目 校內電子全文開放日期: 2009/1/1 校外電子全文開放日期: 不公開 畢業學年度: 95 指導教授: 賴朝松
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電子書
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- 系統號: 005322857 | 機讀編目格式